抗粘劑氣相涂布烘箱，抗粘劑氣相沉積系統主要用于納米壓印光刻（NIL）應用，防粘涂層的制備，可用于光刻工藝中硅烷涂膠；以及功率半導體,LED,MEMS,半導體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。

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更新時間：2025-09-17
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抗粘劑氣相涂布烘箱，抗粘劑氣相沉積系統的用途：
在納米壓印工藝中，要求作為壓印膠的聚合物和基底材料之間能有較強的附著能力，這樣才能保證在退模過程中不會與基底脫離而導致結構被破壞;同時聚合物和模板之間應有盡可能低的界面能，以防止在退模過程中因聚合物與模板之間發生粘連影響壓印質量用然可以通過選擇合適的材料滿足這樣的要求。因此更多的是采用在模板上修飾抗粘層的辦法。
抗粘劑氣相成底膜烘箱，抗粘劑氣相沉積系統主要用于納米壓印光刻（NIL）應用，防粘涂層的制備，可用于光刻工藝中HMDS增粘劑涂膠；以及功率半導體,LED,MEMS,半導體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。
抗粘劑氣相涂布烘箱，抗粘劑氣相沉積系統技術性能：
容量：1-12寸均可，300*300*300,450*450*450，600*600*600（mm）
硅烷添加劑：1-2種
內箱體材質：316L不銹鋼
氣體輸入：1個（氮氣）
工作溫度范圍：80-200/300°C
腔室壓力控制：1tor~100tor
硅烷添加量：2 – 100mL
工藝選擇：可同時設定5個工藝
正常運行時間：> 95％
涂膠原理：氣相沉積法
真空泵：干泵

抗粘劑氣相成底膜烘箱，抗粘劑氣相沉積系統主要用于在納米壓印工藝中，要求作為壓印膠的聚合物和基底材料之間能有較強的附著能力，這樣才能保證在退模過程中不會與基底脫離而導致結構被破壞;同時聚合物和模板之間應有盡可能低的界面能，以防止在退模過程中因聚合物與模板之間發生粘連影響壓印質量用然可以通過選擇合適的材料滿足這樣的要求。因此更多的是采用在模板上修飾抗粘層的辦法。

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抗粘 劑氣相涂布烘箱，抗粘劑 氣相沉積系統主要用于納米壓印光刻（NIL）應用，防粘涂層的制備，可用于光刻工藝中硅烷涂膠；以及功率半導體,LED,MEMS,半導體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。

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